Fluorescent film, film-forming method therefor, multilayer dielectric film, optical element, optical system, imaging unit, instrument for measuring optical characteristics, method of measuring optical characteristics, exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method

WO2009113544 Art A1 17. September 2009

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2009113544
Aktenzeichen
EP09718676
Anmeldetag
10. März 2009
Veröffentlichung
17. September 2009
Rechtsraum
WO
IPC
C09K11/61C09K11/00C09K11/85G01J1/02G02B6/06H01L21/027
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Nikon Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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