Photosensitive resin composition, photosensitive resin hardened film, and method for forming light-shielding image

WO2009113615 Art A1 17. September 2009

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009113615
Aktenzeichen: EP09720763
Anmeldetag: 12. März 2009
Veröffentlichung: 17. September 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027C08F2/44C08F20/10G02B5/00G02B5/20G02F1/1335

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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