Single chamber vacuum heat treating furnace and method of preventing oxidation of article to be treated in single chamber vacuum heat treating furnace
WO2009113621
Art A1
17. September 2009
Anmelder: IHI Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009113621
- Aktenzeichen
- EP09720775
- Anmeldetag
- 12. März 2009
- Veröffentlichung
- 17. September 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C21D1/773C21D1/74F27B5/04F27B5/18F27D1/18F27D7/06F27D9/00F27D19/00F27D21/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- IHI Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
IHI Corporation
Japanischer Industriekonzern mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Schwermaschinenbau, Luft- und Raumfahrttriebwerke sowie Anlagenbau.
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