Single chamber vacuum heat treating furnace and method of preventing oxidation of article to be treated in single chamber vacuum heat treating furnace

WO2009113621 Art A1 17. September 2009

Anmelder: IHI Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2009113621
Aktenzeichen
EP09720775
Anmeldetag
12. März 2009
Veröffentlichung
17. September 2009
Rechtsraum
WO
IPC
C21D1/773C21D1/74F27B5/04F27B5/18F27D1/18F27D7/06F27D9/00F27D19/00F27D21/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
IHI Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 IHI Corporation

Japanischer Industriekonzern mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Schwermaschinenbau, Luft- und Raumfahrttriebwerke sowie Anlagenbau.

1.709 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen