Reducing Particle Implantation

WO2009114230 Art A2 17. September 2009

Anmelder: Carl Zeiss SMT, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009114230
Aktenzeichen: EP09718909
Anmeldetag: 13. Februar 2009
Veröffentlichung: 17. September 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G01N23/225

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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