Inspection apparatus for lithography

WO2009115342 Art A1 24. September 2009

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009115342
Aktenzeichen: EP09721470
Anmeldetag: 20. März 2009
Veröffentlichung: 24. September 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G01B11/06G01J4/04G01N21/21G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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