Method for manufacturing semiconductor device
WO2009116158
Art A1
24. September 2009
Anmelder: Renesas Technology Corp. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009116158
- Aktenzeichen
- EP08722576
- Anmeldetag
- 21. März 2008
- Veröffentlichung
- 24. September 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/56B29C43/18B29C43/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Renesas Technology Corp.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Renesas Technology
Renesas Technology war ein japanischer Halbleiterhersteller und Vorgängerunternehmen der heutigen Renesas Electronics. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Software, ergänzt um Datenspeicher- und Schaltungstechnik. Anmeldungen stammen aus den Jahren 2000 bis 2009.
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