Diruthenium complex and material and method for chemical vapor deposition
WO2009116191
Art A1
24. September 2009
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009116191
- Aktenzeichen
- EP08792814
- Anmeldetag
- 4. September 2008
- Veröffentlichung
- 24. September 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C16/18C07C49/08C07C53/10C07C53/18C07C53/21H01L21/285C07F15/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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