Plasma processing method and plasma processing apparatus

WO2009116579 Art A1 24. September 2009

Anmelder: SANYO Electric Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009116579
Aktenzeichen: EP09723444
Anmeldetag: 18. März 2009
Veröffentlichung: 24. September 2009
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/509H01L21/3065H01L21/31H05H1/46

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: SANYO Electric Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sanyo Electric

Ehemaliger japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Osaka, seit 2011 Teil des Panasonic-Konzerns. Sanyo war aktiv in Unterhaltungselektronik, Halbleitern, Batterietechnik und Solartechnologie.

4.660 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von