Surface treatment method, showerhead, treatment container, and treatment apparatus using same

WO2009116588 Art A1 24. September 2009

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009116588
Aktenzeichen: EP09721919
Anmeldetag: 18. März 2009
Veröffentlichung: 24. September 2009
Rechtsraum: WO
IPC: B24C1/00B24C11/00C23C16/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von