Inspection apparatus, lithographic apparatus and method of measuring a property of a substrate

WO2009118113 Art A1 1. Oktober 2009

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009118113
Aktenzeichen: EP09724702
Anmeldetag: 16. März 2009
Veröffentlichung: 1. Oktober 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01N21/956G01N21/47

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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