Method for film formation, apparatus for film formation, and computer-readable recording medium

WO2009119147 Art A1 1. Oktober 2009

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009119147
Aktenzeichen: EP09725944
Anmeldetag: 23. Januar 2009
Veröffentlichung: 1. Oktober 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/285C23C16/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von