Resist underlayer film, composition for resist underlayer film formation, and method for resist underlayer film formation

WO2009119201 Art A1 1. Oktober 2009

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009119201
Aktenzeichen: EP09725712
Anmeldetag: 19. Februar 2009
Veröffentlichung: 1. Oktober 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G8/20H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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