Cyclic compound, process for producing cyclic compound, photoresist base material comprising cyclic compound, photoresist composition, microprocessing method, semiconductor device, and apparatus

WO2009119784 Art A1 1. Oktober 2009

Anmelder: Idemitsu Kosan Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2009119784
Aktenzeichen
EP09724313
Anmeldetag
27. März 2009
Veröffentlichung
1. Oktober 2009
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/004C07C43/30C07C69/736G03F7/039
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Idemitsu Kosan Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Idemitsu Kosan

Japanisches Energie- und Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Aktiv in Mineralölverarbeitung, petrochemischen Produkten, Schmierstoffen sowie Materialien für organische Leuchtdioden (OLED).

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