Cyclic compound, process for producing cyclic compound, photoresist base material comprising cyclic compound, photoresist composition, microprocessing method, semiconductor device, and apparatus
WO2009119784
Art A1
1. Oktober 2009
Anmelder: Idemitsu Kosan Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009119784
- Aktenzeichen
- EP09724313
- Anmeldetag
- 27. März 2009
- Veröffentlichung
- 1. Oktober 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/004C07C43/30C07C69/736G03F7/039
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Idemitsu Kosan Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Idemitsu Kosan
Japanisches Energie- und Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Aktiv in Mineralölverarbeitung, petrochemischen Produkten, Schmierstoffen sowie Materialien für organische Leuchtdioden (OLED).
2.158 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.