Ultra-Low Reflectance Broadband Omni-Directional Anti-Reflection Coating

WO2009120983 Art A2 1. Oktober 2009

Anmelder: Rensselaer Polytechnic Institute 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009120983
Aktenzeichen: EP09723633
Anmeldetag: 27. März 2009
Veröffentlichung: 1. Oktober 2009
Rechtsraum: WO
IPC: C09D5/00H01L31/042

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Rensselaer Polytechnic Institute
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Rensselaer Polytechnic Institute

Das Rensselaer Polytechnic Institute ist eine private technische Universität mit Sitz in Troy, New York, und eine der ältesten technischen Hochschulen der USA. Das Patentportfolio streut breit über Medizintechnik, Halbleiter und Mess- und Prüftechnik, mit weiteren Anmeldungen in Pharma, Kunststofftechnik und Software. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2025 ab.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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