Cleaning module and euv lithography device with cleaning module

WO2009121385 Art A1 8. Oktober 2009

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009121385
Aktenzeichen: EP08873733
Anmeldetag: 19. November 2008
Veröffentlichung: 8. Oktober 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20B08B7/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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