Projektionsbelichtungsanlage für die Euv-Mikrolithographie

WO2009121438 Art A1 8. Oktober 2009

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009121438
Aktenzeichen: EP08873701
Anmeldetag: 16. Dezember 2008
Veröffentlichung: 8. Oktober 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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