Silicon single crystal wafer, method for fabricating silicon single crystal or method for fabricating silicon single crystal wafer, and semiconductor device
WO2009122648
Art A1
8. Oktober 2009
Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009122648
- Aktenzeichen
- EP09727572
- Anmeldetag
- 19. Februar 2009
- Veröffentlichung
- 8. Oktober 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C30B29/06C30B33/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Handotai
Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.
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Fachgebiete
Vertreten von
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