Photoresist Composition

WO2009122753 Art A1 8. Oktober 2009

Anmelder: Daicel Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2009122753
Aktenzeichen
EP09726625
Anmeldetag
2. April 2009
Veröffentlichung
8. Oktober 2009
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/039C08G61/02G03F7/38H01L21/027
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Daicel Chemical Industries, Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Daicel Chemical Industries

Daicel Chemical Industries, heute Daicel Corporation, ist ein japanischer Chemiekonzern mit Schwerpunkt auf Kunststoffen, Zelluloseprodukten und Airbag-Systemen. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Kunststoff- und Polymertechnik sowie organische Chemie, ergänzt durch Fahrzeugtechnik. Anmeldungen stammen aus dem Zeitraum 2000 bis 2011.

590 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen