Heat treatment apparatus

WO2009122913 Art A1 8. Oktober 2009

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2009122913
Aktenzeichen
EP09728646
Anmeldetag
18. März 2009
Veröffentlichung
8. Oktober 2009
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/26
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Tokyo Electron Limited
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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