Reflection type mask blank, reflection type mask, and method for manufacturing the same

WO2009122972 Art A1 8. Oktober 2009

Anmelder: Hoya Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009122972
Aktenzeichen: EP09727079
Anmeldetag: 24. März 2009
Veröffentlichung: 8. Oktober 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F1/16

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hoya Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

1.653 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von