Photomask blank, photomask, and method for manufacturing photomask blank

WO2009123171 Art A1 8. Oktober 2009

Anmelder: Hoya Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009123171
Aktenzeichen: EP09728611
Anmeldetag: 31. März 2009
Veröffentlichung: 8. Oktober 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/08H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hoya Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

1.653 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

Vertreten von