Lithographic apparatus and contamination detection method

WO2009123446 Art A1 8. Oktober 2009

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009123446
Aktenzeichen: EP09727401
Anmeldetag: 27. März 2009
Veröffentlichung: 8. Oktober 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01N21/00G01B11/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von