A method of assessing a model of a substrate, an inspection apparatus and a lithographic apparatus

WO2009124669 Art A1 15. Oktober 2009

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009124669
Aktenzeichen: EP09730153
Anmeldetag: 30. März 2009
Veröffentlichung: 15. Oktober 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/47G01N21/956G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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