Cathode electrode for plasma cvd and plasma cvd apparatus

WO2009125477 Art A1 15. Oktober 2009

Anmelder: Shimadzu Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009125477
Aktenzeichen: EP08740060
Anmeldetag: 8. April 2008
Veröffentlichung: 15. Oktober 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205C23C16/455C23C16/505H01L21/31H01L31/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shimadzu Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shimadzu

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Kyoto. Shimadzu entwickelt Analyse- und Messgeräte, medizinische Bildgebungssysteme sowie Komponenten für Luft- und Raumfahrt, Industrie und Wissenschaft.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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