Photoresist stripper composition, and a photoresist peeling method employing the same

WO2009125945 Art A2 15. Oktober 2009

Anmelder: LG Chem, Ltd. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2009125945
Aktenzeichen
EP09730735
Anmeldetag
3. April 2009
Veröffentlichung
15. Oktober 2009
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/42
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
LG Chem, Ltd.
Land
🇰🇷 Südkorea
🇰🇷 LG Chem

Südkoreanisches Chemieunternehmen, das Batteriematerialien, Kunststoffe, petrochemische Produkte und pharmazeutische Wirkstoffe herstellt.

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