Resist underlayer film-forming composition for lithography containing aromatic fused ring-containing resin

WO2009128513 Art A1 22. Oktober 2009

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009128513
Aktenzeichen: EP09731737
Anmeldetag: 16. April 2009
Veröffentlichung: 22. Oktober 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08F212/02C08F226/06G03F7/40H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von