Wiring structure, thin film transistor substrate, method for manufacturing thin film transistor substrate, and display device
WO2009128542
Art A1
22. Oktober 2009
Anmelder: Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009128542
- Aktenzeichen
- EP09732148
- Anmeldetag
- 17. April 2009
- Veröffentlichung
- 22. Oktober 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/28H01L21/336H01L21/768H01L29/417H01L29/78H01L29/786
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Kobe Steel
Japanischer Stahl- und Maschinenbaukonzern mit Sitz in Kobe, tätig in den Bereichen Stahl, Aluminium, Maschinenbau und Schweißtechnik.
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