Method for patterning of hemispherical photonic crystallines and fabrication of photonic crystals with various shapes using photocurable colloidal suspensions
WO2009128591
Art A1
22. Oktober 2009
Anmelder: Korea Advanced Institute of Science and Technology 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009128591
- Aktenzeichen
- EP08793450
- Anmeldetag
- 25. August 2008
- Veröffentlichung
- 22. Oktober 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B01J13/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Korea Advanced Institute of Science and Technology
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
KAIST
Südkoreanische technische Universität und Forschungsinstitution mit Fokus auf Ingenieurwissenschaften, Naturwissenschaften und Technologieentwicklung, unter anderem in Robotik und Elektronik.
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