Lithographic apparatus comprising an internal sensor and a mini-reactor, and method for treating a sensing surface of the internal sensor

WO2009128717 Art A1 22. Oktober 2009

Anmelder: ASML Netherlands B.V., Carl Zeiss SMT AG 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009128717
Aktenzeichen: EP09732488
Anmeldetag: 15. April 2009
Veröffentlichung: 22. Oktober 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Netherlands B.V.
Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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