Lithographic apparatus, device manufacturing method, cleaning system and method for cleaning a patterning device

WO2009129960 Art A1 29. Oktober 2009

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009129960
Aktenzeichen: EP09734573
Anmeldetag: 16. April 2009
Veröffentlichung: 29. Oktober 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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