Reflective mask blank for euv lithography, and reflective mask for euv lithography

WO2009130956 Art A1 29. Oktober 2009

Anmelder: Asahi Glass Company, Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009130956
Aktenzeichen: EP09735230
Anmeldetag: 13. März 2009
Veröffentlichung: 29. Oktober 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/16G03F7/20H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Asahi Glass Company, Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 AGC (Asahi Glass)

Japanischer Glas- und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, früher als Asahi Glass Company firmierend. AGC entwickelt Flachglas, elektronische Materialien, Spezialchemikalien sowie Glasprodukte für Automobil-, Bau- und Elektronikindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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