Illumination optics for euv microlithography and illumination system and projection exposure apparatus comprising an illumination optics of this type

WO2009132756 Art A1 5. November 2009

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009132756
Aktenzeichen: EP09737800
Anmeldetag: 8. April 2009
Veröffentlichung: 5. November 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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