Support structure, inspection apparatus, lithographic apparatus and methods for loading and unloading substrates

WO2009132800 Art A1 5. November 2009

Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009132800
Aktenzeichen: EP09737844
Anmeldetag: 23. April 2009
Veröffentlichung: 5. November 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01L21/687

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands BV
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML Netherlands

ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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