An apparatus for detecting film delamination and a method thereof

WO2009134753 Art A2 5. November 2009

Anmelder: Varian Semiconductor Equipment Associates 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009134753
Aktenzeichen: EP09739555
Anmeldetag: 28. April 2009
Veröffentlichung: 5. November 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/47G01B11/30G01N21/88

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Varian Semiconductor Equipment Associates
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.

Varian Semiconductor Equipment Associates war ein US-amerikanischer Hersteller von Halbleiteranlagen, seit 2011 Teil von Applied Materials. Die Patente betreffen Ionenimplantation und Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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