Projektionsoptik für die Mikrolithografie mit Intensitäts-Korrektureinrichtung

WO2009135556 Art A1 12. November 2009

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009135556
Aktenzeichen: EP09741775
Anmeldetag: 10. März 2009
Veröffentlichung: 12. November 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B27/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von