Component for setting a scan-integrated illumination energy in an object plane of a microlithography projection exposure apparatus

WO2009135576 Art A1 12. November 2009

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009135576
Aktenzeichen: EP09741795
Anmeldetag: 3. April 2009
Veröffentlichung: 12. November 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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