Apparatus for vapor-phase growth and a method for the vapor-phase growth of a thin film

WO2009139116 Art A1 19. November 2009

Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009139116
Aktenzeichen: EP09746323
Anmeldetag: 22. April 2009
Veröffentlichung: 19. November 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205C23C16/52

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

1.022 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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