Method for manufacturing semiconductor device or apparatus, and apparatus for manufacturing the same

WO2009139428 Art A1 19. November 2009

Anmelder: Canon Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009139428
Aktenzeichen: EP09746634
Anmeldetag: 7. Mai 2009
Veröffentlichung: 19. November 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/66H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Canon Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Canon

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, der Kameras, Objektive, Drucker, Kopiergeräte sowie optische und medizinische Bildgebungstechnik entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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