Detection of arcing events in wafer plasma processing through monitoring of trace gas concentrations

WO2009139828 Art A2 19. November 2009

Anmelder: Lam Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009139828
Aktenzeichen: EP09746917
Anmeldetag: 4. Mai 2009
Veröffentlichung: 19. November 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065H01L21/203H01L21/205H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Lam Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von