Selective Inductive Double Patterning

WO2009140172 Art A2 19. November 2009

Anmelder: Lam Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2009140172
Aktenzeichen
EP09747257
Anmeldetag
8. Mai 2009
Veröffentlichung
19. November 2009
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/3065H05H1/34H01L21/027G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Lam Research Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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