Aqueous curable imprintable medium and patterned layer forming method

WO2009141774 Art A1 26. November 2009

Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009141774
Aktenzeichen: EP09750231
Anmeldetag: 14. Mai 2009
Veröffentlichung: 26. November 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00G03F7/075

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands BV
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML Netherlands

ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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