Radiation-sensitive resin composition, method for forming resist pattern and photoresist film

WO2009142182 Art A1 26. November 2009

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009142182
Aktenzeichen: EP09750544
Anmeldetag: 18. Mai 2009
Veröffentlichung: 26. November 2009
Rechtsraum: WO
IPC: C08F20/28C07C69/96G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von