High-k dielectric films and methods of producing using cerium-based precursors

WO2009143452 Art A1 26. November 2009

Anmelder: Sigma-Aldrich Co. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009143452
Aktenzeichen: EP09751680
Anmeldetag: 22. Mai 2009
Veröffentlichung: 26. November 2009
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/40C07F5/00H01L21/316

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sigma-Aldrich Co.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Sigma-Aldrich

Sigma-Aldrich ist ein US-amerikanischer Anbieter von Chemikalien und Life-Science-Produkten und gehört seit 2015 zum deutschen Merck-Konzern. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Pharma-/Biotechnologie und organische Chemie, ergänzt durch Messtechnik und Metallurgie. Die Anmeldungen von 2000 bis 2025 betreffen unter anderem Ramanspektroskopie zur Prozessüberwachung und die Herstellung von Lipid-Nanopartikeln.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Organische Chemie

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