An Element, in Particular an Optical Element, For Immersion Lithography

WO2009143879 Art A1 3. Dezember 2009

Anmelder: Carl Zeiss SMT AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009143879
Aktenzeichen: EP08874456
Anmeldetag: 29. November 2008
Veröffentlichung: 3. Dezember 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B1/10

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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