Rylene-based semiconductor materials and methods of preparation and use thereof
WO2009144205
Art A1
3. Dezember 2009
Anmelder: BASF SE, Polyera Corporation 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009144205
- Aktenzeichen
- EP09753860
- Anmeldetag
- 26. Mai 2009
- Veröffentlichung
- 3. Dezember 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C07D471/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- BASF SE
Polyera Corporation - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
BASF
Deutscher Chemiekonzern mit Sitz in Ludwigshafen, gegründet 1865. Entwickelt und produziert Chemikalien, Kunststoffe, Agrarprodukte und Materialien für zahlreiche Industriezweige.
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