Dithiane derivative, polymer, resist composition, and process for producing semiconductor using the resist composition

WO2009144801 Art A1 3. Dezember 2009

Anmelder: Fujitsu Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009144801
Aktenzeichen: EP08776983
Anmeldetag: 29. Mai 2008
Veröffentlichung: 3. Dezember 2009
Rechtsraum: WO
IPC: C07D339/08C08F28/06C08L41/00G03F7/039H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Fujitsu Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujitsu

Japanisches Unternehmen für Informationstechnik, das Computer, Server, Netzwerktechnik sowie IT-Dienstleistungen und Softwarelösungen entwickelt und anbietet.

17.891 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von