Cleaning solution for substrate for semiconductor device

WO2009145124 Art A1 3. Dezember 2009

Anmelder: Kao Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009145124
Aktenzeichen: EP09754632
Anmeldetag: 18. Mai 2009
Veröffentlichung: 3. Dezember 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02C11D11/00C07C303/44

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Kao Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Kao

Japanischer Konsumgüter und Chemiekonzern mit Sitz in Tokio. Kao entwickelt Produkte und Technologien für Körperpflege, Kosmetik, Haushaltsreiniger sowie chemische Spezialstoffe.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Organische Chemie

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