Liquid treatment apparatus and liquid treatment method

WO2009147962 Art A1 10. Dezember 2009

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009147962
Aktenzeichen: EP09758229
Anmeldetag: 25. Mai 2009
Veröffentlichung: 10. Dezember 2009
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304G03F7/20H01L21/027H01L21/306

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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