Method and system for thermally conditioning an optical element

WO2009150018 Art A1 17. Dezember 2009

Anmelder: ASML Netherlands BV 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2009150018
Aktenzeichen: EP09761581
Anmeldetag: 20. Mai 2009
Veröffentlichung: 17. Dezember 2009
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01L21/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands BV
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML Netherlands

ASML Netherlands B.V. ist die niederländische Kernsparte des weltweit führenden Herstellers von Lithografiesystemen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Veldhoven. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Optik und Fototechnik, ergänzt um Elektronik, elektrische Energietechnik und Halbleiterbauelemente. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2020.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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