Apparatus and method for the treatment of semiconductor substrates
WO2009150226
Art A2
17. Dezember 2009
Anmelder: L'Air Liquide Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude, Intega GmbH 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2009150226
- Aktenzeichen
- EP09761788
- Anmeldetag
- 12. Juni 2009
- Veröffentlichung
- 17. Dezember 2009
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/317
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- L'Air Liquide Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude
Intega GmbH - Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
Air Liquide
Französischer Konzern für Industriegase und medizinische Gase, gegründet 1902 auf Basis des Luftverflüssigungsverfahrens von Georges Claude. Beliefert Industrie, Gesundheitswesen und Elektronikfertigung mit Gasen und Anlagentechnik.
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